Приоритет - решения для искусственного интеллекта, а не смартфоны.

Тайваньский гигант полупроводниковой индустрии TSMC, являющийся ключевым производителем чипов для Nvidia, Apple и многих других компаний, объявил о планах начать массовый выпуск процессоров по 1,6-нанометровому техпроцессу во второй половине 2026 года.

Компания представила детали своей новой передовой технологии А16 на недавней конференции в Санта-Кларе, штат Калифорния. Интересно, что первыми новейшие 1,6-нм чипы TSMC получат не производители смартфонов, как обычно бывает при переходе на новый техпроцесс, а разработчики решений в области искусственного интеллекта.

Это связано с растущими потребностями в высокопроизводительных и энергоэффективных чипах для задач ИИ. По заявлениям TSMC, 1,6-нм техпроцесс А16 предусматривает применение нанолистовых транзисторов, состоящих из чрезвычайно тонких слоев кремния, а также так называемой реверсивной подачи питания. Этот новаторский метод предполагает подачу питания с обратной стороны кремниевой пластины, что позволит упростить внутреннюю проводку и повысить энергоэффективность чипов.

Правда, конкурирующий гигант Intel утверждает, что первым в отрасли внедрит аналогичную реверсивную подачу питания уже в своих 2-нм и 1,8-нм техпроцессах 20A и 18A соответственно, намеченных к запуску в 2025 году. TSMC также заявила, что для производства чипов по новому 1,6-нм техпроцессу А16 не потребуется дорогостоящее новое литографическое оборудование High-NA EUV от ASML, стоимость одной установки которого оценивается примерно в 380 млн долларов.

Intel же ранее заявляла о планах первой начать использование этих передовых систем литографии для создания своих 1,4-нм чипов по техпроцессу 14A. Таким образом, ожидается серьезная конкуренция между гигантами TSMC и Intel в гонке за лидерство в производстве самых компактных и энергоэффективных процессоров следующего поколения. При этом передовые техпроцессы 1-нм класса первыми будут осваиваться для решений в области искусственного интеллекта с их высокими требованиями к производительности.